|
镀膜材料-氟化物
电子束蒸发法是真空蒸发镀膜的一种，是在真空条件下利用电子束进行直接加热蒸发材料，使蒸发材料气化并向基板输运，在基底上凝结形成薄膜的方法。在电子束加热装置中，被加热的物质放置于水冷的坩埚中，可避免蒸发材料与坩埚壁发生反应影响薄膜的质量，因此，电子束蒸发沉积法可以制备高纯薄膜，同时在同一蒸发沉积装置中可以安置多个坩埚，实现同时或分别蒸发，沉积多种不同的物质。通过电子束蒸发，任何材料都可以被蒸发，不同材料需要采用不同类型的坩埚以获得所要达到的蒸发率。
海思科可以提供1~3mm，3~6mm等不同尺寸的蒸发材料。
海思科可以提供1~3mm，3~6mm等不同尺寸的蒸发材料。
|
化学式 Formula |
规格/mm Product Size |
熔点/℃ Melting point |
蒸发源 Evaporation source |
折射率 Refractiveindex At 550nm |
透明波段 Transparent band |
用途 Application |
|
MgF2 |
1-2/1-3等 |
1266 |
B（W,Ta,Mo) |
1.38 |
110-10000nm |
增透膜,多层膜,滤光片，分光器 |
|
CeF3 |
1-3等 |
1460 |
E,B(W) |
1.63 |
300-500nm |
保护膜 |
|
CaF2 |
1-3等 |
1360 |
B（W,Ta,Mo) |
1.23-1.46 |
150-12000nm |
增透膜，偏光镜 |
|
YbF3 |
1-3等 |
1157 |
E |
1.52 |
220-12000nm |
增透膜，热反射膜/介质膜， |
|
YF3 |
1-3/3-5等 |
1387 |
|
1.59 |
220-14000nm |
增透膜，偏光镜，分束镜， |
|
Na3AlF6 |
1-8等 |
1000 |
B（Ta,Mo) |
1.32-1.35 |
200-14000nm |
窄带滤光片，紫外膜 |
|
AlF3 |
1-4等 |
900 |
B |
1.38 |
200-20000nm |
增透膜 |
|
LaF3 |
1-3等 |
1490 |
E,B(W,Mo) |
1.55 |
200-12000nm |
增透膜，介质镜，二向色滤光片 |
|
NdF3 |
1-4等 |
1410 |
B（Ta,Mo) |
1.61 |
220-6000nm |
增透膜，偏光镜，分束镜， |
