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镀膜材料-氧化物
电子束蒸发法是真空蒸发镀膜的一种,是在真空条件下利用电子束进行直接加热蒸发材料,使蒸发材料气化并向基板输运,在基底上凝结形成薄膜的方法。在电子束加热装置中,被加热的物质放置于水冷的坩埚中,可避免蒸发材料与坩埚壁发生反应影响薄膜的质量,因此,电子束蒸发沉积法可以制备高纯薄膜,同时在同一蒸发沉积装置中可以安置多个坩埚,实现同时或分别蒸发,沉积多种不同的物质。通过电子束蒸发,任何材料都可以被蒸发,不同材料需要采用不同类型的坩埚以获得所要达到的蒸发率。
海思科可以提供1~3mm,3~6mm等不同尺寸的蒸发材料。

化学式

Formula

规格/mm

Product Size

熔点/

Melting

point

蒸发源

Evaporation

source

折射率

Refractiveindex

At 550nm

透明波段

Transparent

band

用途

Application

SiO2

1-2/1-3/φ2*2/
φ3*3

1700

E

1.46

200-9000nm

 

Nb2O5

1-2/1-3

1530

E

2.3

350-9000nm

增透膜,干涉滤光片等

Ta2O5

 1-3/Φ90*12t  

1800

RE,RS

2.1

350-9000nm

增透膜,干涉滤光片等

ZrO2

φ18*10t/φ18*7t

2715

E

2.05

250-9000nm

增透膜,多层膜,装饰膜等

TiO2

1-2/1-3

1850±20

RE,RS

2.3

360-9000nm

增透膜,激光多层膜,
分光器,热反射镜等

HfO2

1-3/1-5

2812

E,RS

2.15

200-9000nm

复合膜等

Ti3O5

 1-3

1850

RE,RS

2.3

400-12000nm

增透膜,滤光片等

Al2O3

 1-3

2020

E,BW)

1.54

170-9000nm

增透膜,多层膜,干涉膜等

WO3

 1-3

1473

E,BW)

1.7

360-10000nm

保护膜,功能膜等

CeO2

 1-5

2727

E,BW)

2.2

400-12000nm

增透膜等

Cr2O3

 1-3

2275

E

2.1

600-8000nm

粘接促进材料,塑料基片镀膜
彩色/防晒镀膜。

MgO

 1-3/3-5

2852

E,BW,Ta)

1.7

200-8000nm

激光镀膜,粘接促进材料等

SiO

1-2/2-4

1700

BW,Ta,Mo)

1.8-1.9

400-9000nm

分束镜,彩色/防晒镀膜等

TiO

1-3/3-5

1750

RE,RS

1.9-2.3

400-12000nm

 

Y2O3

 1-3/3-5

2410

E

1.87

300-12000nm

 

Ti2O3

 1-3

2130

RE,RS

1.9-2.3

400-12000nm

 

SnO2

 1-3

1127

E,BW)

2.0-2.1

 

 

ZnO

 1-3

1975

E,BW,Mo)

2.1

350-20000nm

 

Sb2O3

 1-3

656

BTa)

2.3

300-1000nm

 

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