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镀膜材料-混合物
电子束蒸发法是真空蒸发镀膜的一种，是在真空条件下利用电子束进行直接加热蒸发材料，使蒸发材料气化并向基板输运，在基底上凝结形成薄膜的方法。在电子束加热装置中，被加热的物质放置于水冷的坩埚中，可避免蒸发材料与坩埚壁发生反应影响薄膜的质量，因此，电子束蒸发沉积法可以制备高纯薄膜，同时在同一蒸发沉积装置中可以安置多个坩埚，实现同时或分别蒸发，沉积多种不同的物质。通过电子束蒸发，任何材料都可以被蒸发，不同材料需要采用不同类型的坩埚以获得所要达到的蒸发率。
海思科可以提供1~3mm，3~6mm等不同尺寸的蒸发材料。
海思科可以提供1~3mm，3~6mm等不同尺寸的蒸发材料。
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化学式 Formula |
规格/mm Product Size |
熔点/℃ Melting point |
蒸发源 Evaporation source |
折射率 Refractiveindex At 550nm |
透明波段 Transparent band |
用途 Application |
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LaTiO3 |
1-3等 |
1800 |
E |
2.13 |
400-7000nm |
增透膜，滤光片 |
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LaAlO3 |
1-3 等 |
2200 |
E |
2.1 |
400-7000nm |
增透膜，滤光片 |
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Ta2O5+TiO2 |
1-3 等 |
1800 |
E |
2.2 |
400-7000nm |
增透膜，滤光片 |
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ZrO2+TiO2 |
φ18*10t等 |
2200 |
E |
2.1 |
360-7000nm |
增透膜 |
|
ZrO2+Ta2O5 |
φ18*8t等 |
1975 |
E |
2.1 |
350-20000nm |
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SiO2+Al2O3 |
1-3等 |
2000 |
E |
1.48 |
300-7000nm |
激光镀膜，粘接促进材料， |
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锆铝合金 |
φ25*10tφ25*7t等 |
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E |
1.7 |
|
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ITO |
1-3/φ25*10t等 |
1730 |
E |
1.9-2.0 |
400-1100nm |
防静电/导电膜，塑料基片镀膜 |
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Al2O3+MgO |
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1473 |
E |
1.65-1.7 |
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TiO2+Al2O3 |
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1127 |
E |
1.7 |
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增透膜，塑料基片镀膜 |
