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半导体
半导体生产流程由晶圆制造、晶圆测试、芯片封装和封装后测试组成。塑封之后,还要进行一系列操作,如后固化(Post Mold Cure)、切筋和成型(Trim&Form)、电镀(Plating)以及打印等工艺。典型的封装工艺流程为:划片、装片、键合、塑封、去飞边、电镀、打印、切筋、成型、外观检查、成品测试、包装出货。在整个生产流程中,晶圆制造,芯片封装都有溅镀工艺的存在。
海思科在半导体工业领域为广大客户提供以下靶材产品:
海思科在半导体工业领域为广大客户提供以下靶材产品:
品名 | 规格 | 纯度 | 密度 (g/cm3) | 熔点℃ | 工艺 |
Cu靶材 | 根据顾客的要求定制平面、旋转等靶材。 | 3N5 | 8.95 | 1082.5 | 熔炼 |
NiCr靶材 | 2N8 | | 1430 | 真空熔炼 | |
NiV靶材 | 3N | 8.62 | 1462 | 烧结 | |
Si靶材 | 5N | 2.33 | 1420 | 热喷涂 | |
Ti靶材 | 3N-4N5 | 4.54 | 1688 | 熔炼 | |
TiAl靶材 | 2N6 | 3.85 | 1510 | 真空熔炼 | |
TiO2靶材 | 3N5 | 4.24 | - | 热喷涂 | |
Zn靶材 | 3N5 | 7.13 | 419.73 | 低熔点浇铸 |
