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半导体
半导体生产流程由晶圆制造、晶圆测试、芯片封装和封装后测试组成。塑封之后,还要进行一系列操作,如后固化(Post Mold Cure)、切筋和成型(Trim&Form)、电镀(Plating)以及打印等工艺。典型的封装工艺流程为:划片、装片、键合、塑封、去飞边、电镀、打印、切筋、成型、外观检查、成品测试、包装出货。在整个生产流程中,晶圆制造,芯片封装都有溅镀工艺的存在。

海思科在半导体工业领域为广大客户提供以下靶材产品:


品名

规格

纯度

密度 

g/cm3

熔点

工艺

Cu靶材

根据顾客的要求定制平面、旋转靶材。

3N5

8.95

1082.5

熔炼

NiCr靶材

2N8

 

1430

真空熔炼

NiV靶材

3N

8.62

1462

烧结

Si靶材

5N

2.33

1420

热喷涂

Ti靶材

3N-4N5

4.54

1688

熔炼

TiAl靶材

2N6

3.85

1510

真空熔炼

TiO2靶材

3N5

4.24

-

热喷涂

Zn靶材

3N5

7.13

419.73

低熔点浇铸

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