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平板显示
TFT 是Thin Film Transistor的简称,一般是指的是薄膜液晶显示器,而实际上是指薄膜晶体管(柜形)——能够主动控制屏幕上的每个独立的象素, 就是是所谓的主动矩阵TFT(active matrix TFT)。
TFT技术是二十世纪九十年代发展起来的,采用新材料和新工艺的大规模半导体全集成电路制造技术,是液晶(LC)、无机和有机薄膜电致发光(EL和OEL)平板显示器的基础。TFT是在玻璃或塑料基板等非单晶片上(当然也可以在晶片上)通过溅射、化学沉积工艺形成制造电路必需的各种膜,通过对膜的加工制作大规模半导体集成电路(LSIC)。采用非单晶基板可以大幅度地降低成本,是传统大规模集成电路向大面积、多功能、低成本方向的延伸。在大面积玻璃或塑料基板上制造控制像元(LC或OLED)开关性能的TFT比在硅片上制造大规模IC的技术难度更大。对生产环境的要求(净化度为100级),对原材料纯度的要求(电子特气的纯度为99.999985%),对生产设备和生产技术的要求都超过半导体大规模集成,是现代大生产的顶尖技术.TFT-LCD(彩色薄膜液晶显示器)主要用于计算机、视频终端、通信和仪器仪表等行业.
海思科在平板显示镀膜工业领域为广大客户提供以下靶材产品:
TFT技术是二十世纪九十年代发展起来的,采用新材料和新工艺的大规模半导体全集成电路制造技术,是液晶(LC)、无机和有机薄膜电致发光(EL和OEL)平板显示器的基础。TFT是在玻璃或塑料基板等非单晶片上(当然也可以在晶片上)通过溅射、化学沉积工艺形成制造电路必需的各种膜,通过对膜的加工制作大规模半导体集成电路(LSIC)。采用非单晶基板可以大幅度地降低成本,是传统大规模集成电路向大面积、多功能、低成本方向的延伸。在大面积玻璃或塑料基板上制造控制像元(LC或OLED)开关性能的TFT比在硅片上制造大规模IC的技术难度更大。对生产环境的要求(净化度为100级),对原材料纯度的要求(电子特气的纯度为99.999985%),对生产设备和生产技术的要求都超过半导体大规模集成,是现代大生产的顶尖技术.TFT-LCD(彩色薄膜液晶显示器)主要用于计算机、视频终端、通信和仪器仪表等行业.
海思科在平板显示镀膜工业领域为广大客户提供以下靶材产品:
品名 | 规格 | 纯度 | 密度 (g/cm3) | 熔点℃ | 工艺 |
Al靶材 | 根据顾客的要求定制平面、旋转等靶材。 | 5N5 | 2.702 | 660 | 挤压 |
Cu靶材 | 3N5 | 8.95 | 1082.5 | 熔炼 | |
Mo靶材 | 3N5 | 10.22 | 2610 | 烧结,挤压 | |
NbOx靶材 | 4N | 4.55 | | | |
Si靶材 | 5N | 2.33 | 1420 | 热喷涂 | |
SiO2靶材 | 4N5 | 2.202 | 1713 | 熔炼 | |
Al2O3靶材 | 4N |
|
| 烧结 |
